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    凝固的紀念+創新的傳統:焦裕祿紀念館概念設計

    發布者: FrankZheng 交稿時間:2018-12-23 03:26:11  閱讀數:237512次

    價格:120
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    作品描述
    焦裕祿紀念館新館位于紀念園區的軸線上,儀式感很濃重。在入口的軸線上有紀念碑和紀念館新館;項目的儀式感很強,因此,項目的立面設計使用了厚重的柱廊式,強調了建筑的紀念性和先烈精神的永恒與凝固。 整個建筑分為前后兩個,紀念館入口處為兩層和后面三層的建筑形態;建筑中心位置有室內中式庭院,是傳統中國院落式建筑的現代詮釋。建筑入口處右側有通往二層的坡道,可以觀賞到室外紀念園區,強調視覺的對話。 建筑的流線設計靈活多變,一層設有臨時展廳和附屬功能區,可直通二層永久展廳。二層永久展廳和多功能廳通過大廳富有詩意的坡道進入。西側三樓為擴展展廳;參觀展廳完成后通過采光樓梯廳下至一層出口大廳。 紀念館總建筑面積8000㎡,設有臨時展廳,常設展廳,多功能室,閱覽室會議室,行政辦公,教室,藏品修復室等配套實施。
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    概念設計說明
    紀念館入口效果圖
    入口大堂效果圖
    紀念館出口效果圖
    效果圖
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